超快陰影泵浦探測,飛秒陰影泵浦探測,超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進行測試。首先激光打在樣品上，樣品表面會產(chǎn)生一定程度的損毀，由于本過程很快（ps量級）因此單使用相機連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個損毀的過程。

更新時間：2024-09-12

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瞬態(tài)吸收系列

超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng) 閃光光解系統(tǒng) 超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng) 超快時間分辨太赫茲光譜儀

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超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要利用調(diào)節(jié)pump和probe光之間的光程差來進行測試。首先激光打在樣品上，樣品表面會產(chǎn)生一定程度的損毀，由于本過程很快（ps量級）因此單使用相機連續(xù)采集不能夠完整的觀察到整個損毀的過程。在本儀器中，當每一次激光打在樣品后，便可通過延遲線調(diào)節(jié)兩個光脈沖之間的延遲，從而分別采集激光打在樣品后不同時刻樣品損毀情況。

超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100主要技術(shù)指標

檢測模式	超快光損傷/等離子濺射
時間窗口范圍	8 ns
探測器類型	ICCD，門控時間3 ns
探測時間分辨率	1.5倍激光脈寬
激發(fā)光聚焦鏡頭	20X/50X 可選
樣品移動方式	全自動樣品二維電控移動平臺
軟件功能	數(shù)據(jù)采集/分析軟件

超快泵浦探測陰影成像系統(tǒng)-UPSI100

本功能主要利用相機的門采集功能以及延遲來采集不同時刻，樣品等離子體濺射過程。整個測試流程是激光聚焦打在樣品上，樣品會產(chǎn)生等離子體此時相機的曝光時間固定，曝光時間就相當于一個“門”，再通過時序來調(diào)節(jié)“門”相對于激光打在樣品上的時間為0來進行延遲，從而分別拍出不同時間等離子體的濺射過程。

上一個：閃光光解系統(tǒng)-LFP100